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1、原理和仪器仪器 美国KLA Filmetrics F50 KLA的 Filmetrics 系列利用光谱反射技术,利用380~1050nm光谱垂直入射至样品表面,光线在薄膜薄界面处反射后干涉,记录干涉强度随着波长的变化,通过傅里叶变化可以计算得到膜层厚度。另外一种模式可以通过拟合对反射光谱进行计算,可以得到膜厚、折射率n、k数值。 2、技术参数 膜厚范围:20nm~70um; 光斑尺寸:1.5mm-150um; 波长范围:380~1050nm; 测试精度:<0.2% or 2 nm; 重复精度:0.05nm; 样品尺寸:直径<200mm; 测试速度:5point/5~10sec 测试原理图及FTT模式和光谱匹配模式 3、测试结果输出 (1)FTT模式: 得到反射光干涉强度随着波长的变化图,FTT厚给出膜厚; 给出逐个点坐标与厚度值的对应mapping图(2D平面 and 3D) 一般选择5点、9点、49点、56点、81点等可选。 (2)Spectrum模式: 给出每点的反射光谱图及拟合得出的厚度及折射率数据。 A.原始数据: B.2D mapping C.3D mapping图 4、客户提供 (1)衬底+膜层结构; (2)测试点数量和位置; (3)数据报告中包含信息;样品信息、2D 色坐标及excel三维膜厚与坐标对应关系数据; 反馈数据的报告格式和模板; 5、测试大纲 (1)检测仪器状态,利用Si/SiO2标准片进行校准,确保设备正常工作状态; (2)放置样品:选择合适尺寸的载台,将参考边对准载台定位边; (3)设置参数:基底、膜层及模型的选择,测试点位mapping,可选线扫、面扫49点、56点;注意,一般膜厚拟合率GOF>0.9; (4)报告整理:按照以上报告列表,给出mapping图、原始数据; 6、适用类别 半导体:光刻胶、SiO2/SiNx/SOI; LCD:PI、ITO; MEMS:光刻胶、多晶膜; 光学膜:硬质涂层、减反膜;
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